1-3 特定施設の種類
ダイオキシン類対策特別措置法で届出しなければならない施設の一覧です。
全て覚えるのは難しいので、過去問で問われたこと、この解説で触れていることから覚えていきましょう。
この一覧は、ダイオキシン類対策特別措置法の届出対象となる施設です。公害防止管理者の選任が必要な施設と混同しないように気をつけましょう。
→がある施設は、全体では無く、矢印部分→が特定施設となります。
ぱっと読める目次
- 大気
- 焼結鉱(銑鉄の製造の用に供するものに限る)の製造の用に供する施設
- 製鋼の用に供する施設(鋳鋼又は鍛鋼の製造の用に供するものを除く)
- 亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る)の用に供する施設
- アルミニウム合金の製造(原料としてアルミニウムくず(当該アルミニウム合金の製造を行う工場内のアルミニウムの圧延工程において生じたものを除く)を使用するものに限る)の用に供する施設
- 廃棄物焼却炉(火床面積0.5平方メートル以上又は焼却能力が1時間当たり50キログラム以上のもの。なお、2つ以上の廃棄物焼却炉が設置されている場合にあってはその合計とする)
- 水質
- 硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する施設
- カーバイド法アセチレンの製造の用に供する施設
- 硫酸カリウムの製造の用に供する施設
- アルミナ繊維の製造の用に供する施設
- 担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設
- 塩化ビニルモノマーの製造の用に供する施設
- カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する施設
- クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設
- 4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設
- 2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供する施設
- 8,18-ジクロロ-5,15-ジエチル-5,15-ジヒドロジインドロ[3,2-b:3’,2′-m]トリフェノジオキサジン(別名ジオキサジンバイオレット。)の製造の用に供する施設
- アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設
- 亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する施設
- 担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供する施設
- 廃棄物焼却炉から発生するガスを処理する施設のうち次に掲げるもの及び当該廃棄物焼却炉において生ずる灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの
- 廃PCB等又はPCB処理物の分解施設、PCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設又は分離施設
- フロン類の破壊(プラズマを用いて破壊する方法その他環境省令で定める方法によるものに限る。)の用に供する施設
- 下水道終末処理施設(第1号から前号まで及び次号に掲げる施設に係る汚水又は廃液を含む下水を処理するものに限る。)
- 第1号から第17号までに掲げる施設を設置する工場又は事業場から排出される水(第1号から第17号までに掲げる施設に係る汚水若しくは廃液又は当該汚水若しくは廃液を処理したものを含むものに限り、公共用水域に排出されるものを除く。)の処理施設(前号に掲げるものを除く。)
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大気
焼結鉱(銑鉄の製造の用に供するものに限る)の製造の用に供する施設
- → 焼結炉(原料の処理能力が1時間当たり1トン以上のもの)
製鋼の用に供する施設(鋳鋼又は鍛鋼の製造の用に供するものを除く)
- → 電気炉(変圧器の定格容量が1000キロボルトアンペア以上のもの)
亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る)の用に供する施設
- → 焙焼炉、焼結炉、溶鉱炉、溶解炉及び乾燥炉(原料の処理能力が一時間当たり0.5トン以上のもの)
アルミニウム合金の製造(原料としてアルミニウムくず(当該アルミニウム合金の製造を行う工場内のアルミニウムの圧延工程において生じたものを除く)を使用するものに限る)の用に供する施設
- → 焙焼炉及び乾燥炉(原料の処理能力が1時間当たり0.5トン以上のもの)、溶解炉(容量が1トン以上のもの)
廃棄物焼却炉(火床面積0.5平方メートル以上又は焼却能力が1時間当たり50キログラム以上のもの。なお、2つ以上の廃棄物焼却炉が設置されている場合にあってはその合計とする)
火に床と書いて、「かしょう」と読みます。字の通り、火が出てきて燃える部分となります。
水質
硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する施設
- → 漂白施設(塩素又は塩素化合物によるもの)
漂白方法は塩素系の他、酸素系などもあります。塩素で無ければ、特定施設に該当しません。
カーバイド法アセチレンの製造の用に供する施設
- → アセチレン洗浄施設
硫酸カリウムの製造の用に供する施設
- → 廃ガス洗浄施設
アルミナ繊維の製造の用に供する施設
- → 廃ガス洗浄施設
担体付き触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設
- → 廃ガス洗浄施設
塩化ビニルモノマーの製造の用に供する施設
- → 二塩化エチレン洗浄施設
カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する施設
- → 硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設、廃ガス洗浄施設
クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設
- → 水洗施設、廃ガス洗浄施設
4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設
- → ろ過施設、乾燥施設、廃ガス洗浄施設
多くの特定施設は、洗浄施設が特定施設になります。ただし、4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造施設は、乾燥施設も特定施設になっています。
2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供する施設
- → ろ過施設、廃ガス洗浄施設
8,18-ジクロロ-5,15-ジエチル-5,15-ジヒドロジインドロ[3,2-b:3’,2′-m]トリフェノジオキサジン(別名ジオキサジンバイオレット。)の製造の用に供する施設
- → ニトロ化誘導体分離施設及び還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設及び還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設、熱風乾燥施設
多くの特定施設は、洗浄施設が特定施設になります。ただし、ジオキサジンバイオレット。)の製造施設は、乾燥施設も特定施設になっています。
アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設
- → 廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設
亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する施設
- → 精製施設、廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設
担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供する施設
- → ろ過施設、精製施設、廃ガス洗浄施設
廃棄物焼却炉から発生するガスを処理する施設のうち次に掲げるもの及び当該廃棄物焼却炉において生ずる灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの
- → 廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設
廃PCB等又はPCB処理物の分解施設、PCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設又は分離施設
フロン類の破壊(プラズマを用いて破壊する方法その他環境省令で定める方法によるものに限る。)の用に供する施設
- → プラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設
下水道終末処理施設(第1号から前号まで及び次号に掲げる施設に係る汚水又は廃液を含む下水を処理するものに限る。)
第1号から第17号までに掲げる施設を設置する工場又は事業場から排出される水(第1号から第17号までに掲げる施設に係る汚水若しくは廃液又は当該汚水若しくは廃液を処理したものを含むものに限り、公共用水域に排出されるものを除く。)の処理施設(前号に掲げるものを除く。)
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